晶圆字符量测设备
第一代硅晶圆字符量测已得到国内客户认可,正在研发第二代SIC晶圆字符量测
国内首家实现晶圆字符在线测量设备
采用激光显微镜共聚焦原理以及自研算法实现高精度量测
量测重复精度<1um
第一代SI晶圆特性测量已获得国内客户认可,第二代SIC晶圆特性测量目前正在研发
中 国内首台实现晶圆特性
在线测量的设备利用激光显微镜的共聚焦原理和自主研发的算法,实现高精度测量
设备测量重复精度<1um
参数配置
搭载自主光路设计+高清相机实现晶圆自动引导定位
采用高精度激光显微镜利用20X/50X物镜对字符自动扫描测量
搭载自主光路设计+高清相机实现晶圆膜边距量测
搭配双端口或多端口EFEM单元对接OHT&AMR实现全自动上下料
配备独立光路设计和高清摄像头,实现晶圆自动引导和定位
采用高精度激光显微镜和20X/50X物镜自动扫描和测量字符
配备独立光路设计和高清摄像头,实现晶圆膜边缘距离
测量与双端口或多端口 EFEM 单元配对,与 OHT&AMR 对接,实现全自动上下料
功能描述
适用产品:半导体用6/8/12寸硅晶圆/SIC晶圆
适用工艺段:表面研磨 / 表面抛光 / 清洗 / 终检等
功能说明:
1.EFEM单元支持FOSB/FOUP/OC人工或AGV自动上料
2.高清相机自动引导定位
3.高精度激光显微镜自动测量
4.高清相机实现晶圆膜边距量测
适用产品:6/8/12英寸半导体硅片、SIC晶圆
适用工艺段:表面研磨/抛光/清洗/终检等
功能说明:
1. EFEM 单元支持手动或 OHT 自动进料,例如 FOSB/FOUP/OC
2。高清摄像头自动引导定位
3.高精度激光显微镜自动测量
4.用于测量晶圆薄膜边缘距离的高清相机